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Picosun|产品百科

更新时间:2023-05-16       点击次数:210
  Picosun是一款用于原子层沉积(ALD)的设备。ALD是一种表面工程技术,通过在金属表面原子层沉积高质量材料,可以制造出极其微小的电子元件、光电器件、传感器等。
 
  ALD系统通常由以下几个部分组成:
 
  真空系统:提供高真空环境,以确保沉积过程中不会有气体残留。
 
  原子层沉积源:用于产生沉积物质的设备,如灯、放电机等。
 
  样品台:用于支撑和定位待沉积样品的平台。
 
  真空阀门:用于控制沉积过程中的真空度,以保证沉积物质的纯度和质量。
 
  探头:用于与待沉积表面接触并传递原子层沉积能量的部件。
 
  控制系统:用于控制沉积过程、监测沉积物质的质量和数量,以及实时反馈沉积进度等。
 
  Picosun原子层沉积系统是一款高度自动化的设备,可以实现从原子层沉积过程的开始到结束的全自动化操作。具体而言,设备可以实现以下操作:
 
  选择沉积材料:根据客户需求,可以选择不同的沉积材料,如二氧化硅、金、银等。
 
  控制沉积温度:通过精确控制沉积源的温度,可以控制沉积物质的熔点和结晶度。
 
  控制沉积时间:可以通过调整灯的功率和频率等参数,控制沉积物质的厚度和均匀性。
 
  取样和检测:可以通过探头取样并使用光学显微镜等设备进行检测和分析。
 
  自动清洗:设备可以在沉积过程结束后自动清洗探头和样品台,以确保下一次沉积过程的精准和高效。
 
  总之,Picosun原子层沉积系统是一款高效、精准、自动化的原子层沉积设备,可以大幅提高半导体和光电子行业的生产效率和质量。它在提供更好的产品性能、降低生产成本、满足客户需求等方面发挥着重要作用。
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