详细介绍
PICOSUN™R-200标准型ALD系统是ALD科研 设备市场。它已经成为一些创新公司 和研究机构的研发工具。
灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜,超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。的热壁设计、*独立的前驱体管 路和特殊的载气设计,使得无颗粒沉积广泛应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的 材料。即使在挑战性的多孔材料、超高深 宽比和纳米颗粒表面沉积, 系统都能实现好的均匀性, 这些都归功于我们的技术 Picoflow™。PICOSUN™R-200标准型系统配备功 能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体 源。系统可集成手套箱, 粉末反应腔和各种在 线分析系统, 使您的研究变得高效和灵活。 即 使将来您改变研究领域, 它仍然会是好 的帮手!
技术参数:
衬底尺寸和类型
• 50-200 mm/片
• 156 mm x 156 mm太阳能硅片
• 3D 复杂表面衬底
• 粉末与颗粒
• 小批量
• 多孔, 通孔, 高深宽比(HAR)样品 (高可达1:2500)
工艺温度
• 50 – 500°C
沉积材料
• Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金属 Pt 或者 Ir
基片加载
• 气动升降,手动加载
• 预真空室安装磁力操作机械手(Load lock)
前驱体
• 液态, 固态, 气态, 臭氧源
• 4根独立源管线, 多加载6个前驱体源
选件
• PICOFLOW™扩散增强器, RGA、N2发生器、尾气处理器、定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载)
产品咨询
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