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PICOSUN™ R-200高级型

简要描述:PICOSUN™ R-200高级型灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜,超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2022-11-17
  • 访  问  量:371

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详细介绍

PICOSUN™ R-200高级型ALD系统是ALD科研设备市场, 在全球拥有百用户。它已经成为一些创新公司和研究机构的研发 工具。

PICOSUN™ R-200高级型灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜,超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。的热壁设计、*独立的前驱体管 路和特殊的载气设计, 使得无颗粒沉积广泛  应用于平面晶圆、 3D基片和所有纳米尺度的  材料。即使在具挑战性的多孔材料、超高深 宽比和纳米颗粒表面沉积, 系统都能实现好的均匀性, 这些都归功于我们的技术  Picoflow™。Picosun™R-200高级型系统配备功 能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体源。高效率和拥有的远程等离子选项  可以沉积金属而不发生短路,不存在等离子  体损坏的危险。系统可集成手套箱, 超高真空 系统、手动或半自动加载系统, 集群系统, 粉末反应腔, 卷对卷反应腔和各种在线分析系统, 使您的研究变得高效和灵活。 即使将来您改变研究领域, 它依旧会是帮手!


技术参数:

衬底尺寸和类型

•    50-200 mm/片

•    156 mm x 156 mm 太阳能硅片

•    3D 复杂表面衬底

•    粉末与颗粒

•    小批量

•    多孔, 通孔, 高深宽比(HAR)样品 (最高可达 1:2500)


工艺温度

•    50 – 500 °C ,等离子450°C (650 °C加热盘可定制)


沉积材料

•    Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金属Pt 或者 Ir


基片加载

•    气动升降, 手动装载

•    预真空室安装磁力操作机械手(Load lock)

•    半自动机械装置

•    集群系统的批量装载(Cassette-to-cassette)


前驱体

•    液态、固态、气态、臭氧源、等离子体

•    6根独立源管线, 最多加载12个前驱体源(加 上 Plasma管路, 共7根独立源管线)


选件

•    集群工具, PICOFLOW™扩散增强器, roll-to-   roll腔室、超高真空兼容、 RGA、N2发生器、尾 气处理器、定制设计, 手套箱集成(用于惰性 气体下装载)

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