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原子层沉积系统

简要描述:PICOSUN™P-300B原子层沉积系统已经成为高产能ALD 制造业的新标准。拥有的热壁、* 独立的前驱体管路和特殊的载气设计, 确 保我们可以生产出具有优异的成品率、低 颗粒水平和电学和光学性能的高质 量ALD薄膜。

  • 产品型号:PICOSUN™P-300B
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2022-12-13
  • 访  问  量:502

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详细介绍

PICOSUN™P-300B原子层沉积系统已经成为高产能ALD 制造业的新标准。拥有热壁、*  独立的前驱体管路和特殊的载气设计, 确  保我们可以生产出具有优异的成品率、低  颗粒水平和电学和光学性能的高质 量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更  加方便、快捷, 最大限度的减少了系统的  维护停工期和使用成本。拥有技术的 Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积  保形性薄膜更高效, 并已在生产线上得到 验证。

 

PICOSUN™P-300B原子层沉积系统衬底尺寸和类型

•   200mm晶圆 25片/批次(标准间距)

•    150mm 晶圆 50片/批次(标准间距)

•    100mm 晶圆 75片/批次(标准间距)

•    非标准晶圆类基底(使用定制夹具)

•    高深宽比基底(最大深宽比1:2500)

 

工艺温度

•    50 – 500°C

 

标准工艺

•   批量生产的平均工艺时间小于10秒/循环*

•   Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各种金属

•    同一批次薄膜不均匀性<1% 1σ

(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**

 

基片加载

•    气动升降, 手动装载

•    线性半自动装载

 

前驱体

•    液态, 固态, 气态, 臭氧源

•    源瓶余量传感器, 提供清洗和装源服务

•     4根独立的源管线,最多加载8个前驱体源

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