PICOSUN™P-300B原子层沉积系统已经成为高产能ALD 制造业的新标准。拥有的热壁、* 独立的前驱体管路和特殊的载气设计， 确 保我们可以生产出具有优异的成品率、低 颗粒水平和电学和光学性能的高质 量ALD薄膜。

原子层沉积ALD系统已经成为高产能ALD制 造业的新标准。拥有的热壁、*独立的 前驱体管路和特殊的载气设计， 确保我们可 以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和 电学和光学性能的高质量ALD薄膜。

PICOSUN™ P-300F系统代表了工业化ALD工艺。这个系统是为全自动的批量生产而设计， 并与工业标准化的单片晶圆真空集群平台相结合。 P-300F系统通过SEMI S2/S8认证，可以通过SECS/GEM整合到自动化生产线上。

PICOSUN™P-300S系统已经成为高产能ALD制造 业的新标准。拥有的热壁、*独立的前驱 体管路和特殊的载气设计， 确保我们可以生产 出具有优异的成品率、低颗粒水平和电学 和光学性能的高质量ALD薄膜。

PICOSUN™P-1200系统专门对批量的大 尺寸平面基底进行低温薄膜沉积， 应用于有机光电、显示器和OLED等领域。主要的应用包括制备各种各样的钝化层和阻挡层， 显著提高器件的性能和寿命。